分子状汚染物質（AMCs：Airborne Molecular Contaminants）は、ウェーハ製造工程において多くの問題を引き起こします。例えば、光学系或いはウェーハの曇り（Haze）、シリコン酸化膜の完全性低下、エッチングレートのシフト、フォトレジストの被毒、望ましくないドーピング等が挙げられます。特にリソグラフィ装置および材料はデザインルールの微細化に伴い、より複雑でリスクが高いプロセスとなりコンタミネーションコントロールが必須条件となっています。最新のフォトレジストは非常に繊細で、分子状汚染物質による材料汚染や露光装置の光学系の汚染によって解像不良またはパターン欠陥に結びつく可能性があります。
インテグリスはリソグラフィ装置を分子状汚染物質から保護するケミカルエアフィルター、分子状汚染物質の分析サービスを提供しています。
コータ・デベロッパの装置内環境を塩基性不純物から保護
露光装置内環境を塩基性不純物、酸性不純物、揮発性有機化合物から保護
クリーンルーム内の分子状汚染物質の定量分析