パネルガード1-2-3フィルター
液晶パネル用フォトレジスト/溶剤の最終使用点ろ過用フィルター
フィルター交換が容易
専用のマニホールドをご使用頂くことにより工具を必要とせずに短時間でフィルターの交換が可能です。
超高分子量ポリエチレンメンブレン
独自の製法により開発されたメンブレンフィルターは、PSL標準粒子を99.9999 %除去する高い除粒子性能でパネル欠陥の原因となる粒子、ゲルの捕捉に優れています。
優れた濡れ性
フォトレジスト溶剤に対しての濡れ性がPTFEに比べ優れているためダイレクトにレジストを流すことができます。
低吸着性
一般的なフォトレジストに用いられる界面活性剤の低吸着性が確認されています。
2種のフィルターサイズ
大型から小型ガラス基板まで流量に応じて2種類のフィルターサイズをご用意いたしました。
≪アプリケーション≫
● フォトレジストのろ過
● その他溶剤のろ過 など
1. タブをおろしながらレバーを上げ、古いフィルターを引き抜きます。
2. 新しいフィルターを奥まで確実に差し込みます。
3. タブが“カチッ”と音がして、フィルターが固定されるまでレバーをおろします。
4. セット完了
 
パネルガード1-2-3フィルター 製品カタログ(PDF)
オプチマイザーST2マニホールド 製品カタログ(PDF)
ファインプロセス用フィルター製品カタログ
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