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オプチマイザー16/40 カートリッジフィルター
フォトレジストの少、中流量ろ過用フィルター
 | 高い粒子除去率
PSL標準粒子を99.9999 %除去
優れた濡れ性
使用している自社開発の超高分子量ポリエチレン膜は、従来のようなフォトレジスト溶剤からの置換なしに直接フォトレジストをろ過することが可能なため省レジストに寄与します。
低圧損・高流量
従来品に比べ、流量が約80 %アップ。低圧損で高流量が得られます。また、0.05 μmろ過への移行等、高集積化に伴うより精密なろ過へのグレードアップも可能です。
低吸着
一般的なフォトレジストに用いられる界面活性剤の低吸着性が確認されています。
≪アプリケーション≫
● エキシマプロセス用フォトレジストのろ過
● その他のフォトレジストろ過
● レジストのろ過精度のグレードアップ |
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