Extraction(エクストラクション)ブランドの製品およびサービスは、半導体製造プロセスにおける分子状汚染物質の制御および計測に特化しています。
半導体製造における最も重要な工程の一つであるリソグラフィにおいて、分子状汚染物質による影響は重要な課題となっています。例えばコータ/デベロッパにおけるフォトレジスト材料の汚染、露光装置における光学系の曇りなどが挙げられます。

Extractionブランドのケミカルエアフィルターおよび応用製品はクリーンルーム内の分子状汚染物質を高い効率で除去し、リソグラフィ装置内をクリーンな環境に保ちます。

Extractionは分子状汚染物質の優れた分析技術と長年に渡る経験を蓄積しています。この技術と経験を活かし、ケミカルフィルターの寿命予測やクリーンルーム内の汚染計測に係わるサービスおよび製品を提供しています。


 





Extraction VaporSorbII コータ/デベロッパ用ケミカルフィルター データシート(PDF)
Extraction VaporSorbII VP コータ/デベロッパ用ケミカルフィルター データシート(PDF)
Extraction VaporSorb CSP-32 露光装置用ケミカルフィルター データシート(PDF)
分子状汚染物質の分析サービス データシート(PDF)



300mmフォトリソグラフィにおける光学部品およびフォトレジストの汚染防止(PDF)



Extraction製品業務開始のご案内







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