2008年度テクニカルセッション（受講費無料）
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TS-0803：薬液用フィルタの基礎 (フォトリソ編)
ご対象者：フォトリソプロセス、レジスト・溶剤・有機薬品をご使用のお客様や製造にご関係の方
内容の種類：■基礎編 □応用編 □実用編 (■印の内容です)
内容：
主にフォトリソグラフィプロセスにおいて使用される液体用精密ろ過フィルタの材質、構造、ろ過膜の製造方法、粒子除去メカニズム、および性能評価方法等について説明します。
また、フォトレジストや現像液のろ過を行う際に重要となるフィルタの濡れ性、親水化処理方法、ろ過膜の吸着性等について紹介します。
薬液用フィルタに対する基礎的な理解を深めていただき、最適なフィルタの選定、フィルタの寿命管理、あるいは製品の品質向上等にお役立てください。
| 会場 | 【東京】
（港区三田周辺） | 【大阪】
（新大阪駅周辺） | 【熊本】
（熊本空港IC周辺） |
| 開催日時 | 9月12日(金)
10:30-12:00 | 9月11日(木)
10:30-12:00 | 9月10日(水)
10:30-12:00 |
| 申込み締切り | 8月29日(金) | 8月28日(木) | 8月27日(水) |
| 定員 | 40名 | 40名 | 40名 |
本セッションは、弊社製品をご使用またはご検討されているエンドユーザー様および装置・材料メーカー様を対象としております。
TS-0804：フォトリソプロセス用フィルタの最適な使用方法
ご対象者：フォトリソプロセス、レジスト・溶剤・有機薬品をご使用のお客様や製造にご関係の方
内容の種類：□基礎編 ■応用編 ■実用編 ■印の内容です)
内容：
フォトリソグラフィプロセスにおいては、フォトレジスト、反射防止剤あるいは現像液等の薬液中に存在する気泡やソフトゲルが、ディフェクトの原因となります。このため、これらの薬液をろ過する際には、高い粒子除去性能を有するフィルタの適用に加え、通液開始時のエア抜きやソフトゲルの除去に適したろ過速度といった、フィルタの使い方もディフェクトを低減するために重要な要素となります。
本セッションでは、フォトリソプロセス用の薬液ろ過に最適なフィルタについて、孔径の微細化あるいは濡れ性等、フィルタ性能の観点から説明すると共に、その性能をより効果的に引き出す使用方法についても紹介します。
| 会場 | 【東京】
（港区三田周辺） | 【大阪】
（新大阪駅周辺） | 【熊本】
（熊本空港IC周辺） |
| 開催日時 | 9月12日(金)
13:00-14:30 | 9月11日(木)
13:00-14:30 | 9月10日(水)
13:00-14:30 |
| 申込み締切り | 8月29日(金) | 8月28日(木) | 8月27日(水) |
| 定員 | 40名 | 40名 | 40名 |
本セッションは、弊社製品をご使用またはご検討されているエンドユーザー様および装置・材料メーカー様を対象としております。
TS-0805：フィルタによる気体精製技術と応用
ご対象者：フォトリソプロセス、各種ドライ成膜プロセスにご関係の方
内容の種類：■基礎編 ■応用編 ■実用編 (■印の内容です)
内容：
固体として存在する微粒子だけではなく、気体として存在する不純物の管理が、電子工業製品の品質、あるいは歩留まりの向上に重要となっています。特に、半導体製造の先端フォトリソグラフィプロセスにおいては、ケミカル汚染と呼ばれる揮発性不純物の影響が甚大であり、工場の設計段階から、その対策が求められるようになりました。
本セッションでは、気体状不純物を気流中から効果的に取り除くケミカルフィルタの技術について解説します。また、ケミカルフィルタの技術が、フォトリソグラフィプロセスにおいて、どのように応用されているのかを、近年大きな問題となっているレチクルヘイズ等の例を交えながら紹介します。
| 会場 | 【東京】
（港区三田周辺） | 【大阪】
（新大阪駅周辺） | 【熊本】
（熊本空港IC周辺） |
| 開催日時 | 9月12日(金)
14:45-16:15 | 9月11日(木)
14:45-16:15 | 9月10日(水)
14:45-16:15 |
| 申込み締切り | 8月29日(金) | 8月28日(木) | 8月27日(水) |
| 定員 | 40名 | 40名 | 40名 |
本セッションは、弊社製品をご使用またはご検討されているエンドユーザー様および装置・材料メーカー様を対象としております。
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